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第455章 EBL光刻机开始测试明天开始正常更新（第5页）

随后，电子束进入复杂的电磁透镜系统。

多组精密的电磁线圈产生磁场，就像一个个无形的透镜，将电子束逐步聚焦成极细的光点。

这束光点的直径可以细到纳米级别，目前工艺制程是工艺制程14nm。

1毫米等于纳米（百万）。

而人类的一根头丝的直径大约为o。o4～o。o5毫米，即4万到5万纳米。

在偏转系统中，精密的偏转线圈控制着电子束的运动轨迹。

通过计算机程序的精确控制，电子束能够在硅片表面进行精确定位和扫描，就像一支精确的纳米画笔。

在真空室底部，覆盖着光刻胶的硅片正静静等待着。

当高能电子束击中光刻胶表面时，生剧烈的化学反应。

被电子束照射过的区域，光刻胶的分子结构生改变，为后续的显影过程做好准备。

这就是ebL光刻机的曝光过程。

此时，

眼前这台造价昂贵的设备，正在以一种近乎完美的方式运转着，将公司芯片设计部门的设计图纸青龙8124转化为纳米级的实体结构。

它就像一位精确的画家，用电子为笔，在硅片上描绘出集成电路的蓝图。

随着加工的进行，实验室里回荡着设备运转的轻微嗡鸣声。

车载芯片青龙8124已经在计算机上验证与测试过了，郝强已经验收，完全没问题了。

如今，就差制造这一步。

以目前的运转情况来说，只能说是初步成功。

屏幕上也呈现了画图过程，但实际情况，那是肉眼看不到的，需要拿去测试。

ebLoo1最大产能为15oph，即处理一个硅片，只需要24秒左右，效率非常高。

当然，设计图越复杂，耗费时间就越长。

理论来说，ebL光刻机的曝光度很慢，但郝强的技术商店就解决了这个问题。

没过多久，

第一片硅片曝光完成，接着继续第二个硅片曝光，直到曝光十个硅片。

“把后续的显影、封装等工艺完成后进行测试，测试结果出来后跟我说一下。”

郝强跟组长交代，“目前看来，我们只是初步成功了，理论上研制ebL光刻机这条路是行得通的。”

大家听到董事长的话，实验室内瞬间爆出一阵热烈的掌声与欢呼，科研人员们相互击掌，脸上洋溢着无法掩饰的喜悦与兴奋。

当然，大家也知道，这只是初步成功而已，还不能高兴过早。