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第455章 EBL光刻机开始测试明天开始正常更新（第4页）

郝强走近设备，仔细打量着每一个细节，心中感慨万千。

他想起了团队成员们在实验室里加班加点的日子，想起了那些熬夜调试、反复试验的身影。

每一个人都在为了这个目标而努力，付出了巨大的心血。

抚平心情，认真地检查。

其实，在组装之前，每个零部件都进行过测试了，确保总测顺利。

郝强眼前这个样机ebLoo1，主机尺寸长4米，宽2。5米，高约3。5米，重约3。5吨。

整个系统包括控制机柜、真空泵系统、冷却水循环系统、减振台座、操作控制台等，全套系统重约1o吨。

算上这些配套设备，一台ebL光刻机就不止十平方米了，通常需要至少5o平方米的，要求室内净高达到4米，且对地面稳定性有较高要求，重新打了地基，免得工作时影响了工作精度。

当然，哪怕精度是相对性的，理论上跟地面震动没有影响，但纳米级设备要求就比较高。

除了避震要求外，还要求恒温：2o±1c

-相对湿度：45±5%

洁净度：c1ass1oo-1ooo级

以及要求良好的电磁防护。

大概一个小时后，

郝强也没有现什么大问题，但还是有些担忧，让组长开始测试。

随着组长的指令，测试正式开始。

实验室内的气氛瞬间变得紧张而激动，所有人都屏息凝视，目光紧盯着设备的反应。

随着启动按钮的按下，设备出轻微的嗡鸣声，逐渐运转起来，显示屏上开始闪烁着数据。

“设备正常运转！”

组长略有兴奋，说明路子是对的。

当然，要测试自然要拿实物硅片进行。

实验室里已经准备好了许多片涂上光刻胶的硅片，ebL光刻机与传统的光刻机不同，它无需掩膜版，直接写入。

光刻机的工作原理，简单来说，就是把硅片当成一块黑板，然后在黑板上画电路图。

而紫外线或电子束（ebL光刻机）就是粉笔，粉笔的粗细就是线条的粗细。

由于黑板大小固定，要想画更多的图，自然是粉笔越细越好，但相应地对技术要求更高，就越难画。

黑板上的一层膜，对应光刻胶。

画完图后，将硅片浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。

用专业的角度来说，

ebL光刻机与紫光光刻机有一些不同。

先，在机器顶部的电子枪区域，场射电子源开始工作。

在强大的电场作用下，尖锐的钨针尖端释放出高能电子束。

这些高电子束就像一支训练有素的微观部队，整齐划一地向下加。